华为Mate 60系列上所搭载的麒麟9000s芯片,没有人知道它是怎么造出来的,只知道它是由我们中国自己设计和制造的,是世界一流的。我们不可否认,与世界一流芯片的水平还有一定距离,就芯片的制造工艺来说,我们还落后,但或许有一种方法可以让我们追赶上世界第一梯队的水平。
近日,有一个关于5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利公布。该专利显示:按5nm蚀刻线宽设计芯片版图,设计蚀刻掩模版后,用激光直写光刻机刻出蚀刻掩模版;晶圆准备好后将蚀刻掩模版紧靠晶圆上表面,用等离子体进行干法蚀刻,蚀刻结束后移去蚀刻掩模版,清洁晶圆,进行后续常规的芯片制造步骤。这项发明的亮点在于,不用EUV光刻机或DUV光刻机,不需要光刻过程,直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。
当前芯片制造最离不开的东西就是光刻机了,而光刻机又被荷兰的ASML公司所掌握。ASML是全球唯一一家能够制造EUV光刻机的厂商,而其他家最高水平是浸润式光刻机,所以这就奠定了ASML的王者地位,只要谁的芯片工艺想进入7nm,就必须找ASML买EUV光刻机,否则就不行。
随着中国科研力量的积累和技术突破,我们或许真的可以通过蚀刻来造芯片,从而实现弯道超车,并为中国的芯片制造业带来重大变革。可以预见的是,在未来,随着中国光刻产业迅速崛起,其影响将扩散至整个半导体领域。中美芯片战已经打了十几轮了,美国还以为我们会退缩,殊不知我们会选择正面硬钢,我们还需要时间,我相信我们的中国速度会体现在我们的科技成果上。